刻鍍一體機
刻蝕機
鍍膜機
離子束刻蝕機 型號:IBE-150
可加工材料:各種金屬、合金、非金屬、氧化物、氮化物、陶瓷、紅外和超導,磁學,LED等前沿領域。
核心參數
離子源類型:考夫曼離子源
有效束經:Фb≥100mm
離子能量:0~1000 eV
離子束流:0~130mA
樣品臺:水冷/氦冷,±90°傾斜,面內旋轉
高真空系統:前級泵+分子泵
工藝氣路:1-2路
刻蝕均勻性:≤±3%
全自動+半自動控制;支持單工藝和多工藝組、操作記錄、運行記錄、故障診斷、報警等功能。
可選配:0ES終點檢測
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