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刻鍍一體機(jī)
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設(shè)備名稱:刻鍍一體機(jī) 可加工材料:各種金屬、合金、非金屬、氧化物、氮化物、陶瓷、紅外和超導(dǎo),磁學(xué),LED等前沿領(lǐng)域。 核心參數(shù) 主源/輔源類型:考夫曼離子源 樣品臺(tái):3~8英寸,面內(nèi)旋轉(zhuǎn) 靶臺(tái):3~4靶 高真空系統(tǒng):前級(jí)泵+分子泵 工藝氣路:1-3路 均勻性:≤±5% 全自動(dòng)+半自動(dòng)控制;支持單工藝和多工藝組、操作記錄、運(yùn)行記錄、故障診斷、報(bào)警等功能。 可選配:0ES終點(diǎn)檢測(cè)/膜厚儀。 |